Επίστρωση Pvd λεπτής μεμβράνης υψηλής καθαρότητας AlMg Sputtering Target Custom Made

Ο στόχος εκτόξευσης από κράμα αλουμινίου μαγνησίου κατασκευάζεται με τεχνική τήξης, χύτευσης και παραμόρφωσης υπό κενό.Αυτό το υλικό έχει υψηλή αντοχή, θερμική ακτινοβολία, απόδοση ηλεκτρομαγνητικής θωράκισης και καλή αντοχή στη διάβρωση και εφαρμόζεται ευρέως στην αεροδιαστημική, ηλιακό πάνελ, ηλεκτρονικά, αποθήκευση δεδομένων, αυτοκινητοβιομηχανία, πλοήγηση, ανανεώσιμες πηγές ενέργειας.

Η Rich Special Materials εξειδικεύεται στην Κατασκευή Στόχου Σκόπευσης και θα μπορούσε να παράγει Υλικά Αλουμινίου Μαγνήσιου Sputtering σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών.Τα προϊόντα μας διαθέτουν εξαιρετικές μηχανικές ιδιότητες, ομοιογενή δομή, γυαλισμένη επιφάνεια χωρίς διαχωρισμό, πόρους ή ρωγμές.Για περισσότερες πληροφορίες, παρακαλούμε επικοινωνήστε μαζί μας.