NbTi Sputtering Target High Purity Thin Film Coating Pvd Custom Made

Ο στόχος εκτόξευσης νιόβιου τιτανίου κατασκευάζεται μέσω τήξης υπό κενό.Η τυπική περιεκτικότητα σε τιτάνιο είναι 66% (περίπου 50 %).Είναι ένα εξαιρετικό υλικό υπεραγωγιμότητας και θα μπορούσε να κατασκευαστεί σε μια ποικιλία σύνθετων πρακτικών υλικών με συμβατική διαδικασία παραμόρφωσης και θερμικής επεξεργασίας.

Η Rich Special Materials είναι Κατασκευαστής Sputtering Target και θα μπορούσε να παράγει Υλικά Sputtering Niobium Titanium σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών.Για περισσότερες πληροφορίες, παρακαλούμε επικοινωνήστε μαζί μας.