Το μολυβδαίνιο είναι ένα μεταλλικό στοιχείο, που χρησιμοποιείται κυρίως στη βιομηχανία σιδήρου και χάλυβα, το μεγαλύτερο μέρος του οποίου χρησιμοποιείται απευθείας στη χαλυβουργία ή χυτοσίδηρο μετά την συμπίεση του βιομηχανικού οξειδίου του μολυβδαινίου, και ένα μικρό μέρος του τήκεται σε σίδηρο μολυβδαίνιο και στη συνέχεια χρησιμοποιείται στον χάλυβα κατασκευή.Μπορεί να ενισχύσει την αντοχή, τη σκληρότητα, τη συγκολλησιμότητα και τη σκληρότητα του κράματος, αλλά και να ενισχύσει την αντοχή του σε υψηλή θερμοκρασία και την αντοχή στη διάβρωση.Σε ποια πεδία λοιπόν χρησιμοποιούνται οι στόχοι εκτόξευσης μολυβδαινίου;Το παρακάτω είναι το μερίδιο από τον εκδότη του RSM.
Εφαρμογή υλικού στόχων εκτόξευσης μολυβδαινίου
Στην ηλεκτρονική βιομηχανία, ο στόχος εκτόξευσης μολυβδαινίου χρησιμοποιείται κυρίως σε επίπεδη οθόνη, ηλεκτρόδια ηλιακών κυττάρων λεπτής μεμβράνης και υλικό καλωδίωσης και υλικό φραγμού ημιαγωγών.Αυτά βασίζονται στο υψηλό σημείο τήξης του μολυβδαινίου, την υψηλή ηλεκτρική αγωγιμότητα, τη χαμηλή ειδική αντίσταση, την καλύτερη αντίσταση στη διάβρωση και την καλή περιβαλλοντική απόδοση.
Το μολυβδαίνιο είναι ένα από τα προτιμώμενα υλικά για τον εκτοξευόμενο στόχο της επίπεδης οθόνης λόγω των πλεονεκτημάτων του που είναι μόνο το 1/2 της σύνθετης αντίστασης και της τάσης του φιλμ σε σύγκριση με το χρώμιο και δεν προκαλεί περιβαλλοντική ρύπανση.Επιπλέον, η χρήση μολυβδαινίου σε εξαρτήματα LCD μπορεί να βελτιώσει σημαντικά την απόδοση της LCD σε φωτεινότητα, αντίθεση, χρώμα και διάρκεια ζωής.
Στη βιομηχανία επίπεδων οθονών, μία από τις κύριες εφαρμογές της αγοράς του στόχου εκτόξευσης μολυβδαινίου είναι η TFT-LCD.Η έρευνα αγοράς δείχνει ότι τα επόμενα χρόνια θα είναι η κορύφωση της ανάπτυξης των LCD, με ετήσιο ρυθμό ανάπτυξης περίπου 30%.Με την ανάπτυξη της LCD, η κατανάλωση του στόχου sputtering LCD αυξάνεται επίσης ραγδαία, με ετήσιο ρυθμό ανάπτυξης περίπου 20%.Το 2006, η παγκόσμια ζήτηση για υλικό-στόχο εκτόξευσης μολυβδαινίου ήταν περίπου 700 τόνοι και το 2007 ήταν περίπου 900 τόνοι.
Εκτός από τη βιομηχανία επίπεδων οθονών, με την ανάπτυξη της νέας ενεργειακής βιομηχανίας, αυξάνεται η εφαρμογή του στόχου εκτόξευσης μολυβδαινίου σε ηλιακά φωτοβολταϊκά κύτταρα λεπτής μεμβράνης.Το στρώμα ηλεκτροδίου μπαταρίας λεπτής μεμβράνης CIGS (Cu Indium Gallium Selenium) σχηματίζεται στο στόχο εκτόξευσης μολυβδαινίου με ψεκασμό.
Ώρα δημοσίευσης: Ιουλ-16-2022