Με τη βελτίωση του βιοτικού επιπέδου των ανθρώπων και τη συνεχή ανάπτυξη της επιστήμης και της τεχνολογίας, οι άνθρωποι έχουν όλο και υψηλότερες απαιτήσεις για την απόδοση των ανθεκτικών στη φθορά, των ανθεκτικών στη διάβρωση και των ανθεκτικών σε υψηλών θερμοκρασιών προϊόντων επίστρωσης διακόσμησης.Φυσικά, η επίστρωση μπορεί επίσης να ομορφύνει το χρώμα αυτών των αντικειμένων.Τότε, ποια είναι η διαφορά μεταξύ της επεξεργασίας του στόχου ηλεκτρολυτικής επιμετάλλωσης και του στόχου επιμετάλλωσης;Αφήστε τους ειδικούς από το Τμήμα Τεχνολογίας του RSM να σας το εξηγήσουν.
Στόχος επιμετάλλωσης
Η αρχή της ηλεκτρολυτικής επιμετάλλωσης είναι συνεπής με αυτή του χαλκού ηλεκτρολυτικής διύλισης.Κατά την ηλεκτρολυτική επιμετάλλωση, ο ηλεκτρολύτης που περιέχει τα μεταλλικά ιόντα του στρώματος επιμετάλλωσης χρησιμοποιείται γενικά για την παρασκευή του διαλύματος επιμετάλλωσης.Εμβάπτιση του μεταλλικού προϊόντος που πρόκειται να επιμεταλλωθεί στο διάλυμα επιμετάλλωσης και σύνδεσή του με το αρνητικό ηλεκτρόδιο του τροφοδοτικού συνεχούς ρεύματος ως κάθοδο.Το επικαλυμμένο μέταλλο χρησιμοποιείται ως άνοδος και συνδέεται με το θετικό ηλεκτρόδιο του τροφοδοτικού DC.Όταν εφαρμόζεται ρεύμα συνεχούς ρεύματος χαμηλής τάσης, το μέταλλο της ανόδου διαλύεται στο διάλυμα και γίνεται κατιόν και μετακινείται στην κάθοδο.Αυτά τα ιόντα λαμβάνουν ηλεκτρόνια στην κάθοδο και ανάγονται σε μέταλλο, το οποίο καλύπτεται στα μεταλλικά προϊόντα που πρόκειται να επιμεταλλωθούν.
Sputtering Target
Η αρχή είναι κυρίως η χρήση εκκένωσης λάμψης για τον βομβαρδισμό ιόντων αργού στην επιφάνεια στόχο και τα άτομα του στόχου εκτινάσσονται και εναποτίθενται στην επιφάνεια του υποστρώματος για να σχηματίσουν ένα λεπτό φιλμ.Οι ιδιότητες και η ομοιομορφία των διασκορπισμένων μεμβρανών είναι καλύτερες από αυτές των μεμβρανών που εναποτίθενται με ατμό, αλλά η ταχύτητα εναπόθεσης είναι πολύ πιο αργή από αυτή των μεμβρανών που εναποτίθενται με ατμό.Ο νέος εξοπλισμός εκτόξευσης χρησιμοποιεί σχεδόν ισχυρούς μαγνήτες για να σπειροειδή ηλεκτρόνια για να επιταχύνει τον ιονισμό του αργού γύρω από το στόχο, γεγονός που αυξάνει την πιθανότητα σύγκρουσης μεταξύ του στόχου και των ιόντων αργού και βελτιώνει τον ρυθμό διασκορπισμού.Οι περισσότερες από τις μεταλλικές μεμβράνες επιμετάλλωσης είναι με διασκορπισμό συνεχούς ρεύματος, ενώ τα μη αγώγιμα κεραμικά μαγνητικά υλικά είναι διασκορπισμός εναλλασσόμενου ρεύματος RF.Η βασική αρχή είναι η χρήση εκκένωσης λάμψης στο κενό για να βομβαρδιστεί η επιφάνεια του στόχου με ιόντα αργού.Τα κατιόντα στο πλάσμα θα επιταχυνθούν για να ορμήσουν στην επιφάνεια του αρνητικού ηλεκτροδίου ως το διασκορπισμένο υλικό.Αυτός ο βομβαρδισμός θα κάνει το υλικό στόχο να πετάξει έξω και να αποτεθεί στο υπόστρωμα για να σχηματίσει ένα λεπτό φιλμ.
Κριτήρια επιλογής των υλικών-στόχων
(1) Ο στόχος πρέπει να έχει καλή μηχανική αντοχή και χημική σταθερότητα μετά το σχηματισμό του φιλμ.
(2) Το υλικό μεμβράνης για την αντιδραστική μεμβράνη διασκορπισμού πρέπει να είναι εύκολο να σχηματίσει ένα σύνθετο φιλμ με το αέριο αντίδρασης.
(3) Ο στόχος και το υπόστρωμα πρέπει να συναρμολογηθούν σταθερά, διαφορετικά, θα υιοθετηθεί το υλικό μεμβράνης με καλή δεσμευτική δύναμη με το υπόστρωμα και θα ψεκαστεί πρώτα μια μεμβράνη πυθμένα και στη συνέχεια θα προετοιμαστεί η απαιτούμενη στρώση μεμβράνης.
(4) Με την προϋπόθεση ότι πληρούνται οι απαιτήσεις απόδοσης του φιλμ, όσο μικρότερη είναι η διαφορά μεταξύ του συντελεστή θερμικής διαστολής του στόχου και του υποστρώματος, τόσο το καλύτερο, ώστε να μειωθεί η επίδραση της θερμικής τάσης του διασκορπισμένου φιλμ.
(5) Σύμφωνα με τις απαιτήσεις εφαρμογής και απόδοσης της ταινίας, ο στόχος που χρησιμοποιείται πρέπει να πληροί τις τεχνικές απαιτήσεις καθαρότητας, περιεκτικότητας σε ακαθαρσίες, ομοιομορφίας εξαρτημάτων, ακρίβειας μηχανικής επεξεργασίας κ.λπ.
Ώρα δημοσίευσης: Αύγ-12-2022