Σχετικά με το προϊόν-στόχο, τώρα η αγορά εφαρμογών είναι όλο και πιο ευρεία, αλλά υπάρχουν ακόμα ορισμένοι χρήστες που δεν γνωρίζουν πολύ τη χρήση του στόχου, αφήστε τους ειδικούς από το τμήμα τεχνολογίας RSM να κάνουν μια λεπτομερή εισαγωγή σχετικά με αυτό,
1. Μικροηλεκτρονική
Σε όλες τις βιομηχανίες εφαρμογών, η βιομηχανία ημιαγωγών έχει τις πιο απαιτητικές απαιτήσεις για ποιότητα φιλμ στοχευόμενης διασκορπισμού.Τώρα έχουν κατασκευαστεί γκοφρέτες σιλικόνης 12 ιντσών (300 επίσταξη).Το πλάτος της διασύνδεσης μειώνεται.Οι κατασκευαστές πλακιδίων πυριτίου απαιτούν μεγάλο μέγεθος, υψηλή καθαρότητα, χαμηλό διαχωρισμό και λεπτούς κόκκους του στόχου, κάτι που απαιτεί καλύτερη μικροδομή του κατασκευασμένου στόχου.
2, οθόνη
Η επίπεδη οθόνη (FPD) έχει επηρεάσει σε μεγάλο βαθμό την αγορά της οθόνης υπολογιστών και της τηλεόρασης που βασίζεται σε καθοδικό σωλήνα (CRT) με την πάροδο των ετών και θα οδηγήσει επίσης στην τεχνολογία και τη ζήτηση της αγοράς για υλικά-στόχους ITO.Υπάρχουν δύο είδη στόχων iTO.Το ένα είναι η χρήση νανομετρικής κατάστασης οξειδίου του ινδίου και σκόνης οξειδίου του κασσιτέρου μετά τη σύντηξη, η άλλη είναι η χρήση στόχου κράματος κασσίτερου ινδίου.
3. Αποθήκευση
Όσον αφορά την τεχνολογία αποθήκευσης, η ανάπτυξη σκληρών δίσκων υψηλής πυκνότητας και μεγάλης χωρητικότητας απαιτεί μεγάλο αριθμό υλικών φιλμ γιγαντιαίας απροθυμίας.Η πολυστρωματική σύνθετη μεμβράνη CoF~Cu είναι μια ευρέως χρησιμοποιούμενη δομή γιγάντιας ταινίας απροθυμίας.Το υλικό στόχου κράματος TbFeCo που απαιτείται για μαγνητικό δίσκο βρίσκεται ακόμη σε περαιτέρω ανάπτυξη.Ο μαγνητικός δίσκος που κατασκευάζεται με TbFeCo έχει τα χαρακτηριστικά μεγάλης χωρητικότητας αποθήκευσης, μεγάλης διάρκειας ζωής και επαναλαμβανόμενης δυνατότητας διαγραφής χωρίς επαφή.
Ανάπτυξη υλικού στόχου:
Διάφοροι τύποι υλικών λεπτής μεμβράνης έχουν χρησιμοποιηθεί ευρέως σε ολοκληρωμένα κυκλώματα ημιαγωγών (VLSI), οπτικούς δίσκους, επίπεδες οθόνες και επιφανειακές επικαλύψεις του τεμαχίου εργασίας.Από τη δεκαετία του 1990, η σύγχρονη ανάπτυξη του υλικού-στόχου επιμετάλλωσης και της τεχνολογίας sputtering έχει καλύψει σε μεγάλο βαθμό τις ανάγκες της ανάπτυξης διαφόρων νέων ηλεκτρονικών εξαρτημάτων.
Ώρα δημοσίευσης: Aug-08-2022