Το Target είναι ένα είδος υλικού που χρησιμοποιείται συχνά στη βιομηχανία ηλεκτρονικών πληροφοριών.Αν και έχει ένα ευρύ φάσμα χρήσεων, οι απλοί άνθρωποι δεν γνωρίζουν πολλά για αυτό το υλικό.Πολλοί άνθρωποι είναι περίεργοι για τη μέθοδο παραγωγής του στόχου;Στη συνέχεια, ειδικοί από το Τμήμα Τεχνολογίας του RSM θα εισαγάγουν τη μέθοδο κατασκευής του στόχου.
Μέθοδος κατασκευής στόχου
1. Μέθοδος χύτευσης
Η μέθοδος χύτευσης είναι η τήξη των πρώτων υλών του κράματος με μια ορισμένη αναλογία σύνθεσης και, στη συνέχεια, χύνεται το διάλυμα κράματος που λαμβάνεται μετά την τήξη στο καλούπι για να σχηματιστεί η ράβδος και στη συνέχεια σχηματίζεται ο στόχος μετά τη μηχανική επεξεργασία.Η μέθοδος χύτευσης γενικά χρειάζεται να λιώσει και να χυθεί στο κενό.Οι συνήθεις μέθοδοι χύτευσης περιλαμβάνουν τήξη επαγωγής υπό κενό, τήξη τόξου κενού και τήξη βομβαρδισμού ηλεκτρονίων υπό κενό.Τα πλεονεκτήματά του είναι ότι ο στόχος που παράγεται έχει χαμηλή περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες, υψηλή πυκνότητα και μπορεί να παραχθεί σε μεγάλη κλίμακα.Το μειονέκτημα είναι ότι όταν τήκονται δύο ή περισσότερα μέταλλα με μεγάλη διαφορά στο σημείο τήξης και στην πυκνότητα, είναι δύσκολο να γίνει στόχος κράματος με ομοιόμορφη σύνθεση με συμβατική μέθοδο τήξης.
2. Μέθοδος μεταλλουργίας πούδρας
Η μέθοδος μεταλλουργίας σκόνης είναι η τήξη των πρώτων υλών του κράματος με μια ορισμένη αναλογία σύνθεσης, μετά η χύτευση του διαλύματος κράματος που λαμβάνεται μετά την τήξη σε πλινθώματα, η σύνθλιψη των χυτών πλινθωμάτων, η πίεση της θρυμματισμένης σκόνης σε σχήμα και στη συνέχεια η πυροσυσσωμάτωση σε υψηλή θερμοκρασία για να σχηματιστούν στόχοι.Ο στόχος που γίνεται με αυτόν τον τρόπο έχει τα πλεονεκτήματα της ομοιόμορφης σύνθεσης.Τα μειονεκτήματα είναι η χαμηλή πυκνότητα και η υψηλή περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες.Η συνήθως χρησιμοποιούμενη βιομηχανία μεταλλουργίας σκόνης περιλαμβάνει ψυχρή έκθλιψη, συμπίεση εν θερμώ και θερμή ισοστατική συμπίεση.
Ώρα δημοσίευσης: 15 Αυγούστου 2022